產品特點:

   採用頻率為數十千赫茲的中頻電源，配備經過嚴格磁路設計的孿生靶（對靶），可以避免 “打火”、“陽極消失”、“靶中毒”等現象，提高了離化率、濺射速率，顯著提高沉積速度，適合做化合物薄膜（如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等）的沉積。中頻磁控離子鍍膜機在近幾年得到了迅猛的發展，在鐘錶、眼鏡、五金等裝飾度領域得到廣氾的應用。

技術參數:

▲真空室箱體：主要規格有800*1000mm、1000*1200mm，並可以根據客戶具體要求設計非標產品。

▲夾具方式：採用公自轉行星式齒輪結構，工件速度在1-15轉/分鐘可調。

▲控制氣體方式：採用質量流量計控制，進氣穩定，反應速度快。

▲靶：採用整體製造技術，嚴格縝密的磁場設計和磁路布局，濺射刻蝕均勻。

▲電源：配置有中頻電源（20KW、40KW等規格）、直流脈衝電源（電壓、占空比可調節），並可根據實際的情況加裝離子源等輔助設施。

▲抽氣系統：採用國產品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據其真空室大小確定合理型號。也可以根據客戶的需要配備分子泵或者進口泵等。

▲抽真空參數：從大氣抽至5*10‾³Pa≤15min 極限真空度8*10‾4Pa。